P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 StdPbc-0822 SEMI G30 — Test Method

SEMI G30 — Test Method Junction-to-Case Thermal Resistance Measurements of Ceramic Packages

本スタンダードは，プロセス装置または測定装置とフロントオープニング・ボックスとのインタフェースについて装置側の要求事項について規定する。

The user might use this Document to check significant performance characteristics such as accuracy

사용의 세부 사항이 명확히 밝혀져 있거나 특정 어플리케이션 도메인에서 사용이 제한되는 하위 표준들이 HSMS의 보조적인 역할을 하도록 되어 있다

memory capability

P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 StdPbc-0822 SEMI G30 — Test Methodglobal Micropatterning Committee200598global Audits and Reviews Subcommittee200510www. semi. org200511CD ROM19979 2005 Referenced SEMI Standards SEMI P1 Specification for Hard Surface Photomask Substrates SEMI P22 Guideline for Photomask Defect Classification and Size Definition